高性能聚合物用于半导体工艺

一、导热液Galden®  HT PFPE

Galden®  HT PFPE是一种惰性高性能导热液。它的沸点介于 55~270 °C之间，比其他氟化导热液的范围更广，使PFPE能够在270 °C的应用环境下使用。

二、真空泵润滑油

Fomblin® Y规格材料是用作真空泵润滑剂的全氟聚醚惰性流体。

优势：低蒸汽压；耐腐蚀性佳；高热稳定性；良好的润滑性能；无毒性；高介电性能；耐受水性溶剂和非水性溶剂；良好的耐辐射性能。

三、超纯水管道系统

Solef®  HP的诸多性能应用于半导体领域，其中包括：超纯水管道、 直管和管接件；高纯水部件；阀门、流量计、 过滤器、 水箱；涂层和内衬； 湿制程设备和其他高纯度制程设备；膜与过滤介质。

四、湿法制程设备

Halar ECTFE（乙烯-三氟氯乙烯共聚物）粉末喷涂材料，在高低温工况下具有良好的耐腐蚀性和防静电能力，且渗透性低、表面光滑。在半导体领域，可用于半导体设备的保护和防腐，作为面漆喷涂在设备表面，防止设备受到化学腐蚀和静电的影响。

五、晶圆传输设备

Solef® PVDF与Halar® ECTFE被成功应用于槽式清洗设备, 高纯水管道里的工艺罐、阀门、喷嘴和晶圆处理载体等部件的耐化学表面。其中多个规格产品获FM 4910 认证。

KetaSpire® PEEK被成功应用于晶片盒、切片盒。

六、排气管道涂层

Halar®  ECTFE是半导体晶圆厂的首选材料。

Halar ®  ECTFE用于管道系统涂层的特性：适合用作需要接触高腐蚀性化学品、超纯化学品、强无机碱、强矿物酸和强氧化酸的涂层；主要采用静电粉末涂布方式进行涂装；出色的表面光滑度。

七、洁净室设备

用于洁净室设备的部件必须采用惰性材料，能承受循环高温、 刺激性化学性物质以及与半导体制造中的高摩擦移动，且不会对环境造成负面影响。

KetaSpire®  PEEK比传统PEEK的纯度更高。

KetaSpire®  PEEK中金属总量、碱金属和基础金属污染物的浓度明显低于传统PEEK, 尤其是钠、钙、钾最为显著。

八、高性能密封件与O型圈

Tecnoflon®  PFR (FFKM)被用于在集成电路制造过程中的湿法和干法工艺，如薄膜沉积、离子注入、晶圆清洗的各种关键密封应用。

九、组装、封装和测试件

Torlon®  PAI, Veradel®  PESU, KetaSpire®  PEEK和KetaSpire®  PEEK XT。

可靠的性能可以满足后端应用的要求：热稳定性；尺寸稳定性；出色的耐磨、抗蠕变、耐化学性； 静电耗散性能。